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主要技术指标：
测量范围（VIS）：15nm—100μm
测量重复性（RMS）：0.086nm
测量精度（与椭偏仪对比）：0.25nm
测量层数：大于3层
使用光源：卤素灯；
入射角度：90°
测试材料：透明或半透明薄膜材料；
光斑尺寸：20μm—3mm（可选）
测量时间：100ms—4ms；
通信接口：USB2.0
产品特点：
采用光谱干涉原理进行测量，具有非接触、无破坏、快速等特点；
可在真空环境使用；可与大行程工件台配合，实现大面积膜厚自动测量。
产品名称：薄膜测厚仪
主要技术指标：
测量范围（VIS）：15nm—100μm
测量重复性（RMS）：0.086nm
测量精度（与椭偏仪对比）：0.25nm
测量层数：大于3层
使用光源：卤素灯；
入射角度：90°
测试材料：透明或半透明薄膜材料；
光斑尺寸：20μm—3mm（可选）
测量时间：100ms—4ms；
通信接口：USB2.0
产品特点：
采用光谱干涉原理进行测量，具有非接触、无破坏、快速等特点；
可在真空环境使用；可与大行程工件台配合，实现大面积膜厚自动测量。
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以上就是关于薄膜测厚仪全部的内容，关注我们，带您了解更多相关内容。
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