东莞手机配件IP电镀加工厂家价格合理「瑞泓科技」微信炸一炸怎么弄

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镀低折射率膜层，将镀完金属膜层的产品传入装有可形成低折射率膜层的靶材镀膜腔室，加热达到80-150℃的工艺温度，向腔室通入工艺气体，设置溅射功率1-15KW，镀膜时间1-300S，得到厚度为1-100nm的低折射率膜层，此低折射率膜层为氧化硅、氮化硅等膜层；

镀高折射率膜层，将镀完低折射率膜层的产品传入装有可形成高折射率膜层的靶材镀膜腔室，加热达到80-150℃的工艺温度，向腔室通入工艺气体，设置溅射功率1-15KW，镀膜时间1-300S，得到厚度为1-100nm的高折射率膜层，所述高折射率膜层为氧化钛、氮化钛、氧化锆、氮化锆、氧化铌、氮化铌、氧化锌、氧化铟、氧化铝、氧化铁、氧化铬、氮化铬等膜层，此高低折射膜层的工艺气体为Ar、N2、O2中的至少一种，其中Ar气体流量为10-1000sccm，N2气体流量为10-1000sccm，O2气体流量为10-1000sccm；

真空镀膜技术是真空应用技术的一个重要分支，它已广泛地应用于光学、电子学、能源开发，理化仪器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学以及科学研究等领域中。真空镀膜所采用的方法主要有蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积镀以及分子束外延等。此外还有化学气相沉积法。

还可以对珠宝、钟表外壳表面、纺织品金属花纹、金丝银丝线等蒸镀装饰用薄膜，以及采用溅射镀或离子镀对刀具、模具等制造超硬膜。近两年内所兴起的多弧离子镀制备钛金制品，如不锈钢薄板、镜面板、包柱、扶手、床托架、楼梯栏杆等目前正在盛行。

经过无数真空电镀行业技术人员的钻研和攻坚，从环境净化、除尘、工艺优化等方面不断尝试不停的改进，目前真空电镀加工行业单一UV喷涂工序的良品率已经可以达到90%以上了，在不计算镀膜过程及其他过程损耗的情况下，按一般的两涂UV真空电镀的工艺来算，成品直通率为：1×90%×90%=81%，损耗率为19%，如果再回过头算上镀膜工序的正常损耗率1%-2%、素材检查试镀损耗、各工序首件损耗、性能测试品损耗、客户备品损耗、加工过程掉线损耗等等， 25%的真空电镀加工损耗率是比较科学且合情合理的。

真空蒸发镀膜特点

1.优点

设备简单、操作容易

薄膜纯度高，质量好，厚度可控

速率快高、可用掩膜获得清晰图形

薄膜生长机理比较单纯

2.缺点

不易获得结晶结构的薄膜

薄膜与基片附着力小

工艺重复性不够好

3.真空室提供必要的真空

蒸发源和蒸发加热器放置蒸发材料并对其进行加热

基板用于接收蒸发物质并在其表面形成固体蒸发薄膜

基板加热器

测温器